Wikisage is op 1 na de grootste internet-encyclopedie in het Nederlands. Iedereen kan de hier verzamelde kennis gratis gebruiken, zonder storende advertenties. De Koninklijke Bibliotheek van Nederland heeft Wikisage in 2018 aangemerkt als digitaal erfgoed.
- Wilt u meehelpen om Wikisage te laten groeien? Maak dan een account aan. U bent van harte welkom. Zie: Portaal:Gebruikers.
- Bent u blij met Wikisage, of wilt u juist meer? Dan stellen we een bescheiden donatie om de kosten te bestrijden zeer op prijs. Zie: Portaal:Donaties.
Vacuümplasmaspuiten: verschil tussen versies
(https://nl.wikipedia.org/w/index.php?title=Vacu%C3%BCmplasmaspuiten&diff=cur&oldid=37187193 15 apr 2013) |
(ongedaan gemaakt) |
||
| Regel 1: | Regel 1: | ||
Het ''' | <!-- [[Bestand:Dlr-vakuumplasmaspritzanlage.JPG|thumb|Vacuüm plasmaspuiten]] --> | ||
Het '''vacuümplasmaspuiten''' (VPS) is een techniek voor het etsen en schoonmaken van [[plastic]]s, [[rubber]]s en natuurlijke [[vezel]]s evenals voor het vervangen van [[Halogeenalkaan|CFC]]s bij het schoonmaken van [[metaal]]componenten. De techniek maakt het mogelijk oppervlakken te modiciferen en poreuze lagen aan te brengen met een hoge porositeit. | |||
Deze oppervlaktetechniek kan eigenschappen zoals [[wrijving]]sgedrag | Deze oppervlaktetechniek kan eigenschappen zoals [[wrijving]]sgedrag , hittebestendigheid, geleidingsvermogen van het oppervlak, gladheid, cohesiesterkte van [[film (laag)|films]] of [[diëlektrische constante]] verbeteren of het kan materialen [[hydrofiel]] of [[hydrofoob]] maken. | ||
==Proces== | ==Proces== | ||
De | De vacuümplasmabehandeling is een proces dat typisch bij 39-120 °C wordt uitgevoerd om thermische schade te vermijden. Het proces kan niet-thermaal geactiveerde oppervlaktereacties veroorzaken, ontstaan door oppervlakteveranderingen die met een chemische behandeling bij [[atmosferische druk]] niet kunnen voorkomen. | ||
De | De toepassing van het [[plasma (aggregatietoestand)|plasma]] vindt plaats onder gecontroleerde omstandigheden binnen een verzegelde kamer bij een middelgroot [[vacuüm]], rond 13-65 Pa. Het [[gasvormig|gas]] of het mengsel van gassen wordt geactiveerd door een elektrogebied van [[gelijkstroom]] in [[microgolffrequenties]], doorgaans zo'n 1-500 W bij 50 V. De behandelde componenten zijn elektrisch geïsoleerd. | ||
In tegenstelling tot moleculaire chemie, stelt het plasma tewerk: | In tegenstelling tot moleculaire chemie, stelt het plasma tewerk: | ||
| Regel 12: | Regel 13: | ||
*Positieve ionen en [[elektron]]en voor kinetische gevolgen. | *Positieve ionen en [[elektron]]en voor kinetische gevolgen. | ||
Het plasma produceert ook elektromagnetische straling in de vorm van vacuüm [[UVfotonen]] om bulkpolymeren tot een diepte van ongeveer 10 µm te doordringen. Dit kan [[kettingsplitsing]]en en [[crosslink]]ing veroorzaken. | Het plasma produceert ook elektromagnetische straling in de vorm van vacuüm-[[UVfotonen]] om bulkpolymeren tot een diepte van ongeveer 10 µm te doordringen. Dit kan [[kettingsplitsing]]en en [[crosslink]]ing veroorzaken. | ||
Het plasma beïnvloedt materialen op atoomniveau. | Het plasma beïnvloedt materialen op atoomniveau. Technieken zoals de röntgenfoto-elektronspectroscopie en aftast[[elektronenmicroscopie]] worden gebruikt voor oppervlakteanalyse om de vereiste processen te bepalen en hun gevolgen te beoordelen. | ||
Als eenvoudige aanwijzing van oppervlakte-energie, en vandaar adhesie van vochtinvloeden, vaak wordt een test van de contacthoek van het waterdruppeltje gebruikt. Hoe lager de contacthoek, hoe hoger de oppervlakte-energie en hoe meer [[hydrofiel]] het materiaal wordt. | Als eenvoudige aanwijzing van oppervlakte-energie, en vandaar adhesie van vochtinvloeden, vaak wordt een test van de contacthoek van het waterdruppeltje gebruikt. Hoe lager de contacthoek, hoe hoger de oppervlakte-energie en hoe meer [[hydrofiel]] het materiaal wordt. | ||
==Effecten van plasma veranderen== | ==Effecten van plasma veranderen== | ||
Bij hogere energieën neigt de ionisatie meer voor te komen dan chemische | Bij hogere energieën neigt de ionisatie meer voor te komen dan chemische dissociatieons. In een typisch reactief gas, 1 in 100 moleculen vormt vrije basissen terwijl slechts 1 in 106 ioniseert. Het overheersende effect is hier het zich vormen van vrije basissen. De ionische gevolgen kunnen met selectie van procesparameters en indien nodig het gebruik van edele gassen overheersen. | ||
==Toepassingen== | ==Toepassingen== | ||
De componenten voor [[brandstofcel]]len op hoge temperatuur houden van SOFC. | De componenten voor [[brandstofcel]]len op hoge temperatuur houden van SOFC. | ||
Deklaag van [[titanium]] of titanium[[legeringen]] voor implants. | Deklaag van [[titanium]] of titanium[[legeringen]] voor implants. | ||
==Zie ook== | ==Zie ook== | ||
*[[Plasma (aggregatietoestand)|Plasma]] | * [[Plasma (aggregatietoestand)|Plasma]] | ||
*[[Spuit]] | * [[Spuit]] | ||
*[[Vacuüm]] | * [[Vacuüm]] | ||
{{Wikidata|q1352766}} | |||
{{DEFAULTSORT:Vacuum plasmaspuiten}} | {{DEFAULTSORT:Vacuum plasmaspuiten}} | ||
[[Categorie:Coating]] | [[Categorie:Coating]] | ||
Huidige versie van 27 dec 2015 om 19:28
Het vacuümplasmaspuiten (VPS) is een techniek voor het etsen en schoonmaken van plastics, rubbers en natuurlijke vezels evenals voor het vervangen van CFCs bij het schoonmaken van metaalcomponenten. De techniek maakt het mogelijk oppervlakken te modiciferen en poreuze lagen aan te brengen met een hoge porositeit.
Deze oppervlaktetechniek kan eigenschappen zoals wrijvingsgedrag , hittebestendigheid, geleidingsvermogen van het oppervlak, gladheid, cohesiesterkte van films of diëlektrische constante verbeteren of het kan materialen hydrofiel of hydrofoob maken.
Proces
De vacuümplasmabehandeling is een proces dat typisch bij 39-120 °C wordt uitgevoerd om thermische schade te vermijden. Het proces kan niet-thermaal geactiveerde oppervlaktereacties veroorzaken, ontstaan door oppervlakteveranderingen die met een chemische behandeling bij atmosferische druk niet kunnen voorkomen.
De toepassing van het plasma vindt plaats onder gecontroleerde omstandigheden binnen een verzegelde kamer bij een middelgroot vacuüm, rond 13-65 Pa. Het gas of het mengsel van gassen wordt geactiveerd door een elektrogebied van gelijkstroom in microgolffrequenties, doorgaans zo'n 1-500 W bij 50 V. De behandelde componenten zijn elektrisch geïsoleerd.
In tegenstelling tot moleculaire chemie, stelt het plasma tewerk:
- Moleculair, atoom, metastabiele en vrije basissoorten voor chemische gevolgen.
- Positieve ionen en elektronen voor kinetische gevolgen.
Het plasma produceert ook elektromagnetische straling in de vorm van vacuüm-UVfotonen om bulkpolymeren tot een diepte van ongeveer 10 µm te doordringen. Dit kan kettingsplitsingen en crosslinking veroorzaken.
Het plasma beïnvloedt materialen op atoomniveau. Technieken zoals de röntgenfoto-elektronspectroscopie en aftastelektronenmicroscopie worden gebruikt voor oppervlakteanalyse om de vereiste processen te bepalen en hun gevolgen te beoordelen.
Als eenvoudige aanwijzing van oppervlakte-energie, en vandaar adhesie van vochtinvloeden, vaak wordt een test van de contacthoek van het waterdruppeltje gebruikt. Hoe lager de contacthoek, hoe hoger de oppervlakte-energie en hoe meer hydrofiel het materiaal wordt.
Effecten van plasma veranderen
Bij hogere energieën neigt de ionisatie meer voor te komen dan chemische dissociatieons. In een typisch reactief gas, 1 in 100 moleculen vormt vrije basissen terwijl slechts 1 in 106 ioniseert. Het overheersende effect is hier het zich vormen van vrije basissen. De ionische gevolgen kunnen met selectie van procesparameters en indien nodig het gebruik van edele gassen overheersen.
Toepassingen
De componenten voor brandstofcellen op hoge temperatuur houden van SOFC. Deklaag van titanium of titaniumlegeringen voor implants.
Zie ook
Intertaalkoppelingen via Wikidata (via reasonator)